Viertelwellenplatte nullter Ordnung

Retardierung Wellenplatte bei 780 nm

Teiledetails

Material:

Substrat aus Quarzkristall

Fertigungsprozess:

1. Präzisionsschneiden und Polieren des Substrats
2. Reinigung
3. PVD-Beschichtung

Abmessungen:

2 x 2 x 0,2 mm       0,1 mm

Form:

Quadratisch

Spezifikationen:

Schnelle Achse 45° vom Plattenrand

Freie Apertur besser als 85 %

Scratch-and-Dig-Oberflächenqualität: 20/10

Verzerrung der durchgelassenen Wellenfront: λ/10

Phasenverzögerung nullter Ordnung: 2,25 λ

Toleranz der Phasenverzögerung: ± λ/300

Optische Behandlung:

Antireflexbeschichtung bei 780 nm: R < 0,25 %

Anwendung:

Photonikforschung