Wafer silicium 4"

Wafer silicium 4″

Wafer de silicium de première qualité, polies sur une face

Détails du produit

Matière:

Silicium, orientation CZ <100>, type P

Processus de fabrication :

Croissance, découpe, polissage, nettoyage par ultrasons et conditionnement d’un lingot de cristal Si CZ

La fabrication est réalisée en salle blanche afin de garantir un environnement exempt de poussière.

Dimensions :

Diamètre : 100 mm (4 pouces) ± 0,5 mm

Épaisseur : 525 µm ± 25 µm

Forme :

Plat et rond avec une coupe droite

Spécifications :

TTV : < 10 µm

BOW : < 40 µm

Résistivité : 8-12 Ω·cm

Traitement optique :

Aucun

Gravure laser classe 100

Utilisation :

Recherche laser