Wafer silicium 4″
Wafer de silicium de première qualité, polies sur une face
Détails du produit
Matière:
Silicium, orientation CZ <100>, type P
Processus de fabrication :
Croissance, découpe, polissage, nettoyage par ultrasons et conditionnement d’un lingot de cristal Si CZ
La fabrication est réalisée en salle blanche afin de garantir un environnement exempt de poussière.
Dimensions :
Diamètre : 100 mm (4 pouces) ± 0,5 mm
Épaisseur : 525 µm ± 25 µm
Forme :
Plat et rond avec une coupe droite
Spécifications :
TTV : < 10 µm
BOW : < 40 µm
Résistivité : 8-12 Ω·cm
Traitement optique :
Aucun
Gravure laser classe 100
Utilisation :
Recherche laser

