Wafer en silice fondue

Wafer en silice fondue

Disque fin de verre SiO2

Détails de la pièce

Matière :

JGS2/Silice fondue

Procédé de fabrication :

Découpe de lingots et polissage au disque

Dimensions :

D 150 mm, épaisseur 0,5 mm

Forme :

Disque rond et fin

Aspect :

S/D : 60/40

Traitement optique :

Aucun

Utilisation :

fin substrat transparent pour de la nano-texturation.